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[盐都杂谈] 余承东确认了,中国真的在搞 EUV 光刻机,是业内首次公开曝光

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余承东确认了,中国真的在搞 EUV 光刻机,是业内首次公开曝光



本文仅在今日头条发布,谢绝转载

余承东直接确认了,中国真的在搞 EUV 光刻机,而且是业内首次公开实锤。

就在国际媒体圆桌会议上,余承东当着一众海外记者的面明确表态: EUV极紫外光刻设备是先进芯片的关键,中国目前正在研发这些设备。



这话从他嘴里说出来分量完全不同 ,这不是科研院所的论文,也不是行业博主的爆料,是国内半导体产业核心人物首次在国际场合公开确认 EUV 的研发布局,等于直接把中国半导体的长期战略摆到了全世界面前。

以前外界总在猜,中国是不是就守着成熟制程过日子,先进制程装备干脆放弃了?

这次直接给了最明确的答案:根本不可能。我们非但没有停下脚步,反而直接把 EUV 级别的光刻装备当成了核心目标。

中国研制光刻机,等于是挑战全世界

余承东特意提到 “国内相关领域的科研团队和产业伙伴正在全力攻坚” ,这话不是随便说的。EUV光刻机是人类目前造过的精度最高、协作链条最长的工业设备,全球没有任何一家企业能独立完成。要理解这件事的分量,得先搞清楚EUV到底难在哪里,以及ASML是怎么把这件事干成的。

EUV光刻机最核心的就是光源 。它的工作方式是在真空环境里让熔化的锡液滴以每秒五万次的频率精准下落,然后用二氧化碳激光器连续击中每一滴锡,把锡瞬间打成等离子体,才能辐射出波长十三点五纳米的极紫外光。



控制精度要求到什么程度?液滴发生器每分钟要在真空室里连续产生超过三百万个锡液滴,每一个都必须被激光精准命中。这种精度和稳定性不是靠某一个技术突破就能解决的,它需要激光器、液滴发生器、真空系统、控制系统在纳秒级别上同步工作,任何一个环节出偏差,整台机器就废了。

更难的地方在于,极紫外光几乎会被空气和玻璃完全吸收,所以整条光路必须处于高真空环境,传统透镜根本不能用,全部依靠反射镜来传输光线。这意味着EUV的光学设计和之前的深紫外光刻机完全是两套逻辑,等于从零搭建一套全新的工业标准。



而反射镜的制造又是另一个天花板级别的难题。德国蔡司给ASML提供的反射镜,是人类制造过的最平整的结构,如果其中一面反射镜把激光反射到月球,它的精准度足以击中月球表面的一颗乒乓球。

这种加工精度不是靠一家企业砸钱就能砸出来的,它背后是蔡司一百多年在光学领域的积累。

那ASML是怎么把这些东西凑到一起的?答案很清楚:EUV本来也不是ASML搞定的,它只是一个全球顶级供应链的设备组装商。

EUV技术的源头在美国。一九九七年,英特尔牵头成立了EUV LLC联盟,成员包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家实验室,联合IBM、AMD、摩托罗拉等企业,集中数百位科学家共同攻关。ASML当时为了加入这个联盟,做出了在美国建工厂和研发基地的让步才被允许进去,尼康的申请则被美国政府直接拒绝。



所以当时美国就已经打好算盘了,EUV技术突破了以后,就让ASML来制造。

ASML的EUV机器里,美国技术占了核心位置。位于加州圣地亚哥的Cymer公司提供高功率二氧化碳激光器和锡滴发生器,这家公司后来被ASML收购,但研发和制造基地一直在美国。掩膜台、高精度计量系统、计算光刻软件这些关键子系统同样来自美国技术。

德国蔡司提供反射镜,全球大约四千家供应商提供零部件。最后ASML负责定义整机架构、制定技术标准、完成集成验证。



可以这么说,ASML的EUV中有百分之九十的零部件来自进口。美国能对EUV光刻机实施出口管制的底气,就是因为ASML的EUV光刻机离不开美国。

回过头来看中国这边在做什么。整条链条上,光源、光学系统、精密机械、真空设备、材料、光刻胶、计量检测,每一个环节都有人在啃。这不是某一家企业的事,也不是短期能出结果的事。

ASML站在西方工业体系肩膀上用了二十多年才把EUV做成量产设备,中国要在被封锁的条件下从零搭建这套体系,也不是这么容易的事情,这可以说是在挑战人类工业的新纪录。

没有EUV光刻机,中国就没办法发展前沿科技

2024年,中国集成电路进口额达到3857.9亿美元,同比增长10.5%,进口数量5492.6亿块,同比增长14.6%,芯片进口占中国全部货物进口总额的14.9%。

中国是全球买芯片最多的国家,但买得越多,就越容易被别人卡脖子。而全球高端光刻机特别是EUV光刻机,目前只有荷兰ASML一家能够量产供货,美国、日本、荷兰三国联手对先进制程设备实施出口管制,中国拿钱也买不到。

谁掌握了光刻机,谁就掌握了芯片厂的投资决策权。 一座先进制程晶圆厂投资动不动几百亿,设备投资占其中七八成,而光刻机又是所有设备中单价最高、技术门槛最硬的。你买谁的机器,你的产线工艺路线、产能节奏、良率爬坡方案就被谁牵着走。这条路走到头,控制的不只是一台机器,而是手机、汽车、人工智能等所有下游产业的命脉。中国如果不把这一环拿在自己手里,就只能永远被动接受别人定好的价格和供货节奏,把巨额利润让出去。



而且EUV光刻机对于中国前沿科技的话语权有着重要的价值,人工智能训练需要算力芯片,6G通信需要高频高性能芯片,量子计算需要极低温环境下运行的专用芯片,这些应用全都建立在最先进的制程工艺之上。没有EUV光刻机,中国在这些领域的竞争就只能停在设计方案和实验室验证阶段,无法推进到大规模量产。

可以说,突破EUV光刻机,打破美国的封锁,是中国一直都在做也是必须要做到的事情。



一旦中国造出来了,那么全球芯片产业就要重新洗牌

一旦中国把EUV光刻机做出来,全球半导体这张牌桌就要重新洗牌。现在全世界只有荷兰ASML一家能造EUV光刻机,一台卖到1.2亿美元,新一代High-NA型号报价直接翻到4亿美元,台积电三星再贵也得排队买。ASML在这个领域没有任何竞争对手,说它垄断是事实,不是夸张。中国如果成为第二个掌握这项技术的国家,ASML的独家生意就结束了。

现在全球先进制程产能基本集中在台积电和三星手里,中国大陆的芯片厂被挡在EUV门外,只能做28纳米及以上的成熟制程。但中国在成熟制程上已经拿下了全球三分之一的市场。成熟制程芯片用在汽车、家电、工业设备、电网、医疗这些领域,需求量大且稳定。

而一旦中国把EUV光刻机做出来了,那么中国的芯片企业就可以在全球抢占先进制程市场,要知道先进制程利润更高,在全球的话语权也更强。



而且研制EUV光刻机的过程本身就会带动中国工业的发展,这些能力一旦搞定,不会只用在光刻机上。高端机床、航空航天精密部件、医疗影像设备、量子器件制造,都可以用到这些技术。换句话说,造EUV光刻机不只是为了造芯片,它是一次对中国整个高端制造业的带动。

最重要的是,掌握了EUV技术,中国就有资格参与先进制程半导体技术标准的制定。现在半导体的很多技术路线、接口规范、工艺标准,都是由掌握先进制程能力的国家和企业主导的,而EUV一旦突破,先进制程的工艺标准、设备接口标准、材料标准,中国就有了参与谈判的筹码。



可以说,到时候中国依靠庞大的半导体产业链,可以提供一条从设计到制造到芯片封装的和西方完全不同的芯片方案,到那个时候,美国就再也没有可能在芯片领域卡我们的脖子了。 #中国研发EUV光刻机意义大吗# #国产EUV光刻机多久能实现?#
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嗯,EUV了解了
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哈哈余承东确认了多来点这种通报!
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关注下中国真的在搞
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EUV信息挺及时
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光刻机希望能落实到位
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这个余承东确靠谱吗
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中国真的在搞有后续吗,蹲一个
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光刻机这块再跟进就好
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哈哈中国真的在搞了解了
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中国真的在搞蹲后续
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看完余承东确认了心里有数了
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话说光刻机啥时候能见成效
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看完谢绝转载心里有数了
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